
多种机型配套直读光谱、ICP 等分析仪器,累计配套 3000+ 台套,降低高纯氩用气成本。

双塔结构、多通路阀设计,再生不用氢气无需抽真空,用于冶金保护用气深度净化。

允许原料氢含氧高达 1000 ppm,廉价工业纯氢即可作气源,服务电子、半导体、光纤等领域。

瓶装工业氧净化为高纯氧,可与红外碳硫分析仪配套,用于电子、光导纤维与仪器分析。

前置双吸附塔 + 高温合金除氮塔级联,残余氮 ≤ 0.5 ppm,满足半导体电子级要求。

五温区精密控温,覆盖 Ar / He / Ne / Kr / Xe 全谱系,输出高达 6N 级超纯气。







