气体纯化设备

依托中国科学院成都有机化学催化与吸附纯化技术,形成覆盖氩、氮、氢、氧及稀有气体的完整产品系列。

99.999999% 输出气体最高纯度
-76℃ ~ -100℃ 输出气体极限露点
1 ~ 500Nm³/h 单机处理流量覆盖(支持小型气站定制)
9000+ 累计装机总量

气体净化机

双塔一用一备 · 催化吸附再生工艺,覆盖氩、氮、氢、氧及稀有气体,从实验室终端纯化到集中供气气站,运行无耗材。

CZA系列氩气净化机
CZA 系列

氩气净化机

多种机型配套直读光谱、ICP 等分析仪器,累计配套 3000+ 台套,降低高纯氩用气成本。

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CZN系列氮气净化机
CZN 系列

氮气净化机

双塔结构、多通路阀设计,再生不用氢气无需抽真空,用于冶金保护用气深度净化。

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CZH系列氢气净化机
CZH 系列

氢气净化机

允许原料氢含氧高达 1000 ppm,廉价工业纯氢即可作气源,服务电子、半导体、光纤等领域。

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CZO系列氧气净化机
CZO 系列

氧气净化机

瓶装工业氧净化为高纯氧,可与红外碳硫分析仪配套,用于电子、光导纤维与仪器分析。

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CZA-4N-2超高纯净化机(除N₂型)
CZA-4N-2

超高纯净化机(除N₂型)

前置双吸附塔 + 高温合金除氮塔级联,残余氮 ≤ 0.5 ppm,满足半导体电子级要求。

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FX系列惰性气体纯化器
CZA-4N / FX-Z

惰性气体纯化器

五温区精密控温,覆盖 Ar / He / Ne / Kr / Xe 全谱系,输出高达 6N 级超纯气。

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CZA-4ZT全自动净化机
CZA-4ZT

全自动净化机

一键启停,自动判断再生与塔体切换,模块化可拆卸,触摸屏动态显示,运行无耗材。

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XZ系列循环再生式净化机
XZ / CZH 系列

循环再生式净化机

密闭工作室气体净化循环再生,纯度可达 99.9998%,适合稀有气体闭环循环使用。

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大流量气体净化机
30 ~ 500 m³/h

大流量气体净化机

撬装集中供气一拖多机,主机 + 管阀 + 在线分析交钥匙交付,服务芯片与新能源产线。

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CJX-YDG气体净化柱
CJX-YDG 系列

气体净化柱

管路终端复合纯化柱,五气种可选,纯度 > 99.9999%,耐压 10 MPa,支持返厂再生。

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空气净化器

就地循环净化实验室空气,专项脱除 H₂S 与 VOCs,无需改造外排风管。

气体发生器

SPE 电解纯水制氢,四级纯化链路输出 7N~8N 超纯氢,全面替代实验室高压氢瓶。

全系列快速选型总表

产品系列 代表型号 适用气体 原气纯度及允许杂质 输出纯气纯度 关键残余杂质指标 流量范围 典型应用场景
全自动气体净化机 CZA/N/H/O-4ZT Ar / N₂ / H₂ / O₂ ≥99.9%;O₂、H₂O ≤ 1000 ppm ≥ 99.9998% O₂ ≤ 0.5 ppm,露点 ≤ -72℃,CO+CO₂ ≤ 0.1 ppm 1 ~ 200 Nm³/h 无人值守实验室、高端分析与连续产线
氩气净化机 CZA-B / C / D / Z Ar ≥99.9%;O₂、H₂O < 1000 ppm ≥ 99.9998% O₂ ≤ 0.5 ppm,H₂O ≤ 2 ppm(露点 ≤ -72℃) 1 ~ 200 Nm³/h 直读光谱仪、ICP 光谱、冶金、新材料
氮气净化机 CZN-B / C / Z N₂ ≥99.9%;O₂、H₂O ≤ 1000 ppm ≥ 99.9998% O₂ ≤ 0.5 ppm,H₂O ≤ 2 ppm(露点 ≤ -72℃) 1 ~ 500 Nm³/h 冶金热处理保护气、电子半导体封装
氢气净化机 CZH-B / C / Z H₂ ≥99.9%;O₂、H₂O < 1000 ppm ≥ 99.9998% O₂ ≤ 0.5 ppm,H₂O ≤ 2 ppm(露点 ≤ -72℃) 1 ~ 500 Nm³/h 电子、光纤、粉末冶金、化工催化加氢
氧气净化机 CZO-B / C / Z O₂ ≥ 99.9%;H₂ ≤ 1000 ppm,烃/COₓ ≤ 60 ppm ≥ 99.9998% H₂ ≤ 0.1 ppm,烃/CO+CO₂ ≤ 0.1 ppm,露点 ≤ -72℃ 1 ~ 100 Nm³/h 高频红外碳硫分析仪、光纤、半导体氧化
超高纯净化机(除N₂型) CZA-4N-2 Ar ≥ 99.9%;O₂ ≤ 1000 ppm,N₂ ≤ 200 ppm ≥ 99.999% O₂ ≤ 1 ppm,N₂ ≤ 0.5 ppm,露点 ≤ -72℃ ≤ 4 m³/h(可定制) 需深度脱除氮杂质的锂电、半导体、光谱
惰性气体纯化器 CZA-4N / FX-Z Ar / He / Ne / Kr / Xe ≥ 99.9%;O₂ < 200 ppm,N₂ < 200 ppm ≥ 99.9999% (6N) O₂ ≤ 0.2 ppm,N₂ ≤ 0.2 ppm,露点 ≤ -76℃ 1 ~ 200 Nm³/h 半导体电子特气、光纤、稀有气体超纯化
循环再生式净化机 XZ / CZH-C·Z Ar/N₂/He/H₂/O₂/Ne/Kr/Xe 回收尾气 ≥ 99.9%;O₂/H₂O ≤ 1000 ppm ≥ 99.9998% O₂ ≤ 1 ppm,H₂O ≤ 2 ppm(露点 ≤ -72℃) 1 ~ 500 Nm³/h 密闭工作室、手套箱、稀有气体闭环回用
大流量气体净化机 定制撬装气站 Ar / H₂ / N₂ 液态储槽气、管网气或汇流排 ≥ 99.9998% 按行业工艺定制,支持在线露点/氧分析联锁 30 ~ 50+ m³/h 晶圆芯片、新能源、铸造厂集中供气站
气体净化柱 CJX-YDG N₂ / H₂ / Ar / He / 空气 >99.9%;O₂、H₂O < 500 ppm > 99.9999% (6N) O₂ ≤ 0.5 ppm,H₂O ≤ 1 ppm(露点 ≤ -76℃) 5 ~ 50 L/min 分析仪器前端、MFC 管路末端精净化
超纯氢气发生器 NEW HW-300/500/1000 H₂(电解水) 去离子水 ≥ 2 MΩ·cm 7N ~ 8N 深度脱除 O₂、H₂O、N₂、CO、CO₂、烃类 300 ~ 1000 mL/min 气相色谱、半导体、光纤、氢能测试
实验室空气净化器 NEW CZAPF-A15 / A30 实验室室内空气 含 H₂S、烷/烯/芳烃、有机硫 CADR 180/550 m³/h H₂S 穿透容量 ≥ 50 mg/g,VOCs 去除 ≥ 95% 220 / 680 m³/h 石油地质、岩心分析、有机合成实验室